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电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统
电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 、 电子束曝光系统 CABL-9000C series
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JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
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JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统,通过全方位的设计优化,实现更简便的操作,更快的刻写速度,更小的占地面积和安装空间,并且更加绿色节能。产品
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多功能电子束曝光机
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电子束直写系统 EBPG5150
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电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 EVG半导体检测仪
电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)是微纳电子器件制作中的重要技术之一,日本CRESTEC公司生产的CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列
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半导体检测仪电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 CABL-9000C series
电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)在微纳电子器件制造中扮演着重要的角色,是纳米光刻技术制造方法之一。日本CRESTEC公司推出了先进的电子束纳米光刻(EBL)系统,也称为
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